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2025-06
離子光刻機(jī)
離子光刻機(jī)是一種利用聚焦離子束（Focused Ion Beam, FIB）將圖案直接寫入材料表面或光刻膠上的先進(jìn)微納加工設(shè)備。相較于傳統(tǒng)的光學(xué)光刻（ ...
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2025-06
光刻機(jī) 對比
光刻機(jī)是半導(dǎo)體芯片制造過程中不可或缺的關(guān)鍵設(shè)備，其功能是在硅晶圓上精確刻畫電路圖案。隨著集成電路制程節(jié)點(diǎn)向7納米、5納米、甚至2納米發(fā)展，光刻技術(shù)的分 ...
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2025-06
投影光刻機(jī)
概述投影光刻機(jī)（Projection Lithography System）是利用光學(xué)投影方式將掩模（mask）上圖案成像并縮小投影到基片（晶圓或玻璃 ...
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2025-06
紫外線光刻機(jī)
概述紫外線光刻機(jī)（UV Lithography System）是一種利用紫外光將圖案轉(zhuǎn)印到光刻膠上的關(guān)鍵設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、微機(jī)電系統(tǒng)（MEM ...
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2025-06
光刻機(jī)投影
光刻機(jī)投影是現(xiàn)代微納米制造工藝的核心環(huán)節(jié)，它利用高精度光學(xué)系統(tǒng)將掩膜（mask）上的圖案縮小并成像到基片（晶圓或其它襯底）上，從而完成微米甚至納米級圖 ...
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2025-06
光刻機(jī)紫外線
在半導(dǎo)體制造中，光刻機(jī)（Lithography Machine）是一種利用光源將微小圖案從掩模（mask）轉(zhuǎn)移到晶圓表面的關(guān)鍵設(shè)備。紫外線（UV）作為 ...
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2025-06
步進(jìn)掃描光刻機(jī)
步進(jìn)掃描光刻機(jī)（Step-and-Scan Lithography Machine）是目前先進(jìn)半導(dǎo)體制造中廣泛采用的一種高分辨率、高精度的光刻設(shè)備，廣 ...
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2025-06
dev光刻機(jī)
“DEV光刻機(jī)”中的“DEV”通常指的是“Development”，即顯影工藝階段，因此，DEV光刻機(jī)并不是一種獨(dú)立的光刻設(shè)備，而是指在整個(gè)光刻工藝流 ...
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2025-06
ev光刻機(jī)
EV光刻機(jī)，通常指的是極紫外光刻機(jī)（Extreme Ultraviolet Lithography, 簡稱 EUV），是當(dāng)前最先進(jìn)的光刻設(shè)備之一。它使 ...
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2025-06
標(biāo)簽光刻機(jī)
標(biāo)簽光刻機(jī)，是一種專門用于微納尺度圖案轉(zhuǎn)移、并廣泛應(yīng)用于標(biāo)簽制造、柔性電子、RFID（無線射頻識(shí)別）標(biāo)簽、傳感器和顯示器等領(lǐng)域的光刻設(shè)備。從基本原理來 ...